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CRF真空等離子設備提升半導體產品的封裝可靠性如何？
隨著技術的不斷變化，半導體IC對工藝和包裝的精度要求也有所提高。半導體芯片制造過程中殘留的光刻膠會影響芯片生產過程中的相關工藝質量，從而減少芯片的可靠性和產品合格率。射頻CRF真空等離子設備技術不能滿足高精度脫膠的需要，容易造成芯片損壞。根據CRF真空等離子設備技術可以完全除去芯片表面的殘留物，從而顯著提高可制造性、可靠性和成品率。 半導體行業的清洗分為濕洗和干洗。濕洗是指超聲波清洗，干洗是指等離子體清洗。電路板等離子體清洗后，對提高晶粒與焊盤導電膠的粘附性能、焊膏的滲透性、金屬線鍵合強度、塑料密封和金屬外殼涂層的可靠性有了顯著提高。等離子體清洗在半導體器件、微機電系統、光電元件等包裝領域具有廣闊的市場前景。 半導體行業真空等離子設備的應用主要在以下四個方面： 1.真空等離子設備清洗銅支架<
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如何防止半導體行業超純水設備滋生細菌呢
我們都知道，半導體行業超純水設備經過長時間的使用后，不可避免的會發生細菌滋生的問題，細菌滋生不僅會影響設備的產水水質，還會對設備產生影響，那么，如何防止半導體行業超純水設備滋生細菌呢? 1、次氯酸鈉添加量應根據水源中細菌數進行相應調整，除了定期對細菌數進行檢測外，還應對混合離子交換柱入口游離氯進行檢測，以免游離氯超標，影響樹脂的正常運行。 2、注意用水點旋塞的污染，使用頻率較小的旋塞容易成為微生物污染的對象，一旦污染，若不長時間放水沖洗，無法恢復原狀態。 3、市售次氯酸鈉溶液容易氧化分解，若使用時間過長或系統逢節假日停運時間較長，除了從水箱放水讓反滲透膜隔一段時間運行數小時、使系統保持活性外，也要對次氯酸鈉溶液適時進行更換。 4、混合離子交換柱通常都采用一用一備的，細菌在靜止超純水設備中能夠迅速繁殖，通常在備用混床投入運行前，對其進行再生，以保證殺菌效果。 半導體行業超純水設備優良的性能和出水水質得到了廣大用戶的認可。以上就是為大家介紹的全部內容，希望對大家有幫助。
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半導體行業超純水設備電導率忽高忽低怎么辦
一、一般情況下，水處理系統與初始狀態一致，沒有發生變化，電導率升高。這時候引起電導率高的原因是反滲透膜組件老化導致脫鹽率下降，正確處理方法是更換反滲透主機的反滲透膜，通常更換頻率(周期)是2-3年一次。 二、其他情況： 1、半導體行業超純水設備正常運行電導率突然升高，排水量增大。這種情況是由于反滲透膜組件連接密封圈泄露造成的電導率急劇升高，建議更換密封圈。具體方法是檢測每個膜組件的水質情況，找出泄露的部分更換。 2、半導體行業超純水設備在開機的時候二級電導升高很難降下來或者是降的時間太長。這種情況一般在雙級反滲透中常見，在一級和二級中間一般有加氫氧化鈉來調節水中二氧化碳的脫除量的措施，氫氧化鈉的添加量與電導率有關系，建議調整添加量。 3、半導體行業超純水設備在運行一段時間后產水量沒變化，電導率升高，排水量增大。說明膜被氧化性介質降解，電導率升高，需要更換膜組件。 4、半導體行業超純水設備預處理的砂碳凈化過濾效果減低或失效沒有定期及時反沖洗(進水電導率會相對升高)。 <
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如何判斷半導體生產用純水設備是否需要檢修呢
正確使用半導體生產用純水設備能使設備使用的時間更長，其出水性能也會更有保證。但是若在使用過程中沒有按操作說明去執行，不但影響設備的出水水質，還會增加設備維護工作的難度，那么怎樣判斷半導體生產用純水設備是否需要檢修呢?具體表現如下： 1、產水量下降 在正常壓力下，若出現設備產水量下降，系統中的水不是在充滿狀態，此時需要通過不帶壓沖洗的方法排凈空氣，如果不排凈空氣，就容易產生“水錘”的現象而損壞系統元件。正常運行后觀察設備的產水流量及工作壓力、電導率等來判斷是否污堵，根據產水流量及濃水流量來判斷產水量是否能達到所設計的標準。 2、進水端與濃水段壓差波動 如果設備的進水和濃水之間的壓力有波動，諸如上升或下降現象，說明已經受到污染，需立馬清洗。 3、出水水質 若出水水質變渾濁，很明顯是設備中某些元件受損造成，應立刻排查。污堵后如若不及時用化學藥劑清洗，會造成設備的污堵越來越嚴重。 半導體生產用純水設備在日常工作過程中，要保障設備放置的地方通風干燥
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半導體行業超純水設備停機方式有哪些
半導體行業超純水設備停機方式有兩種，一種是手動停機，另一種是自動停機。下面為大家介紹一下手動停機和自動停機的操作及注意事項。 1、手動運行時停機 在電控箱將EDI膜塊的選擇開關切換至“停止”的位置，將增壓泵的選擇開關切換至“停止”的位置，關閉半導體行業超純水設備進水閥門、產水閥門和濃水排放閥門。 2、自動運行時停機 半導體行業超純水設備正常運行時在達到水箱設定液位值后會自動停止運行。為了保證半導體行業超純水設備的安全運行，設備在控制方面進行以下幾種自動連鎖控制，當不滿足以下條件時，設備也會自動停止運行。 (1)濃水進水流量、濃水排水流量低于各自的設定值時，限位開關會自動開啟。 (2)增壓泵過載。 (3)整流電源故障。 半導體行業超純水設備停運時不要接通水源，否則設備在下次啟運時需要較長的時間進行再生。 以上為大家介紹的就是半導體行業超純水設備停機的兩種方式，希望對大家有幫助。 <
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半導體超純水設備的管道應該如何清洗呢
半導體超純水設備管道如果長時間不清洗，會嚴重影響出水水質，那么半導體超純水設備管道應該如何清洗呢?下面介紹一下： 首先我們需要注意的是清洗超純水管道一定要采用超純水，然后將儲罐與水泵連接，再和需要清洗的管道進行連接，往儲罐注入一定量的超純水，用水泵進行循環，十五分鐘之后擰開排水閥，一邊排放一邊循環，可以使用流量計測量。然后用稀釋過的氫氧化鈉溶劑繼續循環沖洗，循環半個小時。 第一遍清洗前應在不銹鋼濾筒里安裝使用過的微孔濾棒專供清洗使用，清洗完成后更換全新微孔濾棒。半導體超純水設備中的樹脂罐嚴禁與清洗所用的雙氧水溶液接觸，清洗前樹脂罐旁應安裝管道旁通。 第二、三遍使用雙氧水溶液清洗時，每次應使用雙氧水溶液在管內循環半小時，然后停止循環關閉主閥門，讓溶液在管道中浸泡1小時。 第四遍清洗時，應使用沖洗的方式，沖洗時間不少于8小時，邊沖洗邊循環，邊在管道最末端放水。 以上為大家介紹的就是半導體超純水設備管道的清洗方法，希望對大家有幫助。
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半導體行業用超純水設備的系統優勢有哪些
半導體行業用超純水設備采用預處理、反滲透技術、超純化處理等核心步驟，我們可根據客戶需求，設計不同產水量、符合不同產水要求的超純水設備。 半導體行業用超純水設備系統優勢 1、系統采用新水處理技術雙級RO EDI 拋光混床模塊化設計，嚴格按新技術的設計標準執行，確保水質穩定，長效運行。 2、通過專業技術設計，確保系統短時停機及長時間停機時水質保持穩定。 3、通過專業技術保證終端出水恒壓、水質穩定。 4、通過完善的技術大限度的提高系統回收率，降低能耗和運行成本。 5、采用超低壓膜，運行穩定，能耗低。 6、采用PH調節系統以確保原水PH值偏低時出水水質穩定。 8、EDI及后段出水采用超純水專用管道，大限度的保證出水水質。 9、EDI水箱采用氮封裝置，以確保終端水質穩定及延長混床壽命。 10、我們的設備可以采用PLC加觸摸屏控制系統，操作方便，運行穩定。 11、半導體行
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半導體超純水設備的安全性能如何判斷呢
半導體超純水設備的制造需要遵循一定的安全準則，保證半導體超純水設備的運行安全穩定，那么半導體超純水設備的安全性能如何判斷呢? 1、半導體超純水設備的工藝和技術的安全性必須達到規定的標準。客戶可以通過查看該廠商的產品是否有衛生部頒發的《涉水產品衛生許可批件》來驗證。 2、半導體超純水設備的組成部件要求安全，不能存在有害的溶出物質。衛生部在核查涉水產品衛生許可批件的時候，會有一個完善的程序，檢測各零部件安全性以及整機功能的安全性。只要獲得了相關批件基本可以確認是安全的。 3、要安裝報警系統，以免出現故障，以致污水進入生產加工段。報警系統也很重要，自動報警及自適應處理系統，能很好地解決這個問題。 關于怎樣判斷半導體超純水設備的安全性能就介紹到這里了，希望對大家有所幫助，半導體超純水設備的制造要符合上述的性能標準，在使用時才會更加的放心。
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成都半導體超純水設備的作業原理是什么？
現在的電去離子叫EDI，是一種將離子交換技術，離子交換膜技術和離子電遷移技術相結合的純水制造技術。屬高科技綠色環保技術。今天我們介紹的成都半導體超純水設備具有連續出水、無需酸堿再生和無人值守等優點，已在制備純水的系統中逐步代替混床作為精處理設備使用。 這種技術的環保特性好，操作使用簡便，成都半導體超純水設備受到大眾的認可，是一種水處理設備。成都半導體超純水設備廣泛地在醫藥、電子、電力、化工等行業得到推廣。那么，成都半導體超純水設備的作業原理是什么？ 成都半導體超純水設備的工作原理 電去離子(EDI)系統主要是在直流電場的作用下，通過隔板的水中電介質離子發生定向移動，利用交換膜對離子的選擇透過作用來對水質進行提純的一種科學的水處理技術。電滲析器的一對電極之間，通常由陰膜，陽膜和隔板(甲、乙)多組交替排列，構成濃室和淡室(即陽離子可透過陽膜，陰離子可透過陰膜)。 淡室水中陽離子向負極遷移透過陽膜，被濃室中的陰膜截留;水中陰離子向正極方向遷移陰膜，被濃室中的陽膜截留，這樣通過淡室的水中離子數逐漸減少，成
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簡述半導體行業用超純水設備工作原理
半導體行業用超純水設備可連續，穩定地生產高品質純水，無需因樹脂再生而停機。同時，無污染物排放，既環保又省去了廢液處理的投資，還具有節能優點。
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半導體產業持續擴產連帶無塵室設備市場增長
各無塵室設備廠商接單暢旺，在2011年后兩季市場份額漸漸增長，2012年前兩季接單也穩步增長，這讓無塵室與其設備廠家樂觀預期，2012年至2013年業績有望維持成長力道。 自動化設備廠盟立受惠于面板設備增加以及IBM信息計算機出貨旺，5月營收沖高到5.37億元，合并營收6.03億元，創下歷史新高記錄，累計前10月稅前盈余5.4億元，年成長73%，每股稅前盈余為3.28元，每股稅后盈余為2.86元。盟立在手訂單約32億元，訂單能見度到2012年第2季底，以面板設備為主。 無塵室機電空調整合工程服務廠圣暉指出，目前在手的工程訂單金額已逾新臺幣40億元，而且已排到2012年上半。其中，無塵室工程比重約4成，化學物質供應工程近3成，生物科技、一般機電及其他工程各1成，將在未來6~8個月分批認列，可望帶動2013年業績再成長。半導體業者指出，景氣在2012年第3季后將逐漸回溫。同時，2013年將恢復平穩成長，對于半導體設備與無塵室業者來說，亦可持續成長力道。
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半導體工業用超純水設備特點是什么
半導體產品清洗用超純水設備關鍵設備及材料均采用國際主流先進可靠產品，全套系統自動化程度高，系統穩定性高。大大節省人力成本和維護成本，水利用率高，運行可靠，經濟合理。使設備與其它同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。半導體超純水設備我公司設計的超純水設備采用成熟、可靠、先進、自動化程度高的二級反滲透 EDI 精混床除鹽水處理工藝，確保處理后的超純水水質確保處理后出水電阻率達到18.2MΩ.cm。 為滿足用戶需要，達到符合標準的水質，盡可能地減少各級的污染，延長設備的使用壽命、降低操作人員的維護工作量.在工藝設計上，取達國家自來水標準的水為源水，再設有介質過濾器，活性碳過濾器，鈉離子軟化器、精密過濾器等預處理系統、RO反滲透主機系統、離子交換混床(EDI電除鹽系統)系統等。系統中水箱均設有液位控制系統、水泵均設有壓力保護裝置、在線水質檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無人職守，同時在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統一的方法，使設備與其它同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。
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半導體行業超純水設備維護小技巧有哪些
半導體行業超純水設備各部件的維護技巧有哪些?下面我們共同了解： 1、產水量是日常維護保養工作與正常生產需要持續關注的運行指標。 進水水溫、操作壓力等因素都會影響整個半導體超純水設備的產水量，排放量的控制將直接影響設備的脫鹽率，適時的對排放量進行合理的調整才能有效保證產水水質。 2、維持設備低壓安全運行 半導體行業超純水設備中反滲透膜是整個系統中原水純化過程的核心部件，反滲透膜的使用壽命與運行環境將極大的影響設備的正常運行。在產水量與水質都達到生產標準的情況下，保持系統在適當的低壓運行狀態有利于降低反滲透膜水通量的衰減，極大的減少設備膜的更換率，延長使用壽命。 3、嚴控設備閥門調節與使用 任一
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半導體超純水設備反滲透膜元件怎么保存呢
半導體超純水設備如果暫時停機或者長期停機時，設備中的核心部件應該如何保存才能不失效呢?下面為大家介紹一下半導體超純水設備反滲透膜元件的保存： 1、短期保存：反滲透膜如果暫停使用時，應對反滲透膜殺菌反沖洗一次，在反沖洗水中加入15ppm(ml/L)的殺菌劑后再將半導體超純水設備中反滲透膜的進水閥、排放閥和調節閥關閉，保持反滲透膜的密封和滅菌作用。 2、長期保存：反滲透膜如果長期停止使用時，先對反滲透膜進行殺菌反沖洗一次，然后在反滲透膜內注入保護液后密封保存。 3、半導體超純水設備中的反滲透膜元件需要一直保持在陰暗的場所，保存溫度勿超過35℃，并要避免陽光照射。 以上就是為大家講解的半導體超純水設備停用時膜元件的保存方法，希望對大家有所幫助。膜元件是半導體超純水設備中的核心部件，設備停用時將其密封保存好，再次開機時才能確保設備性能不受影響。
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半導體生產用超純水設備清洗步驟是什么
半導體生產用超純水設備在使用一段時間后需要對其進行清洗維護，以確保設備長期穩定運行，下面我們一起了解半導體行業用超純水設備清洗步驟是什么? 1、用半導體生產用超純水設備清洗液，檢查溶液的pH值，在清洗之前，要確定所有的藥劑都溶解并攪拌均勻。 2、溶液混合完畢后，以合適的流量和壓力開始清洗，清洗液在最初的幾分鐘排入地溝，然后再循環。 3、清洗過程中要注意清洗液的升溫情況，觀察清洗液顏色的變化，如清洗液變色或變得較渾濁，則需重新配置清洗液。在酸清洗時要注意pH值，如pH值升高0.5個單位，則必須再加酸。 4、停泵，使元件浸泡在溶液中1h左右。 5、再循環，時間為30～40min。 6、清洗完畢后，以反滲透產水或預處理出水沖洗出殘余的清洗液。 7、半導體生產用超純水設備沖洗結束，按規定的運行方式運行，最初產水排放至少10min。
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半導體行業超純水設備常用的儀表有哪些
半導體行業超純水設備在運行中，為了使設備能夠安全穩定的運行，對設備起到監控的作用，需要安裝一些儀器。下面小編來介紹一下半導體行業超純水設備常用的儀表有哪些。 1、溫度表 產水量與溫度有關，為了求出“標準化”后的產水量，需對溫度進行監測，半導體行業超純水設備應進行記錄。 在此需要注意的是，當溫度超過45℃時，膜元件會受損，所以原水加熱系統還應設有超限報警、超溫水自動排放和停運RO的保護。 2、電導率表 給水電導率表可設置報警，從給水電導率和產品水電導率可估計出RO的脫鹽率。 3、壓力表 出水壓力表、給水壓力表、排水壓力表用于計算半導體行業超純水設備的每一段壓降，對產水量和鹽透率維持穩定起到重要作用。 4、pH表 給水防止生成CaCO3垢，需加酸時，加酸后需裝pH表。 當使用醋酸纖維素膜時，除了防止CaCO3垢生成，更重要的是維持pH值為5.7。除指示、記錄、設超限報警外，還可以自動
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半導體生產用純水設備需要定期清洗的部件有哪些
半導體生產用純水設備需要定期清洗和維護，否則會影響設備的正常使用，下面為您詳細講解半導體生產用純水設備都需要定期清洗哪些部件? 1、在夜間停機時，可利用作為原水的自來水對石英砂過濾器及活性碳過濾器進行反洗。因為具有一定的壓力自來水，仍可通過加壓水泵泵體及回流閥進入砂濾器及活性碳過濾器。 2、根據原水水質及設備運行情況，可按照用戶的需要，設定全自動軟水器的運行周期和時間。 3、石英砂過濾器或活性碳過濾器內的石英砂或活性碳，建議一年左右或半年左右徹底清洗更換一次。 4、精濾器，每周排水一次，精濾器內的PP濾芯，每1至3個月清洗一次，可拆卸擰下外殼，取出濾芯，用水沖洗干凈后重新裝入即可。 5、若不是因溫度和壓力的因素而引起的產水量逐漸減少15%時，或水質逐漸下降超標時，則說明半導體生產用純水設備中的反滲透膜需要進行化學清洗。 以上為您介紹的就是半導體生產用純水設備需要定期清洗的部件，希望對大家有幫助。
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電子與半導體廢水回用技術
水處理技術:總述 面對巨大的應用機遇，半導體制造商在日常經營中，非常依賴于超純水連續流。由于全球水資源的日益缺乏，因此超純水的生產成本在不斷地上升。 溶解固體和懸浮固體在含量、酸堿度和金屬雜質方面的差異，使半導體對常規技術處理造成了挑戰。經過膜生物反應器和三級處理系統，就可以對半導體進行處理，使之達到新的嚴格的環境規定或者在工廠內獲得再次利用的機會，這樣就造就了一個零的工廠。 膜系統是一種模塊化系統；處理能力可以快速調節，與產量增長保持一致。這樣，就可確保資本成本隨時處于低水平。系統特點 ※化學品需要量最小或為零； ※淤泥產出量低； ※臭氣產出量低； ※能量需求量低； ※占地緊湊； ※現有基礎設施改造的理想選擇； ※抗沖擊負荷； ※滿足嚴格的廢水品質要求； ※自動化操作。
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?半導體激光打標機水箱怎么安裝？
半導體激光打標機水箱安裝使用非常簡易，新機首次使用可以按下面步驟進行： 1、打開包裝，檢查機器是否完好，附件是否齊備； 2、擰開機器注水口加入冷卻水，注意不要讓水溢出。加水時應同時觀察水位計的水位慢慢加水，用于碳鋼材質設備的冷卻時應該添加適量的冷卻水添加劑。 3、根據設備的情況接好出水管、入水管。 4、插上電源線，打開冷水機電源開關。 a、打開電源開關后，冷水機循環泵就開始運行，新機第一次開機時管路中會有較多的氣泡導致機器偶爾流量報警，運行數分鐘就會恢復正常。 b、第一次開機后，必須馬上檢查水管管路有無漏水情況。 c、打開電源后，如果水溫低于設定溫度，機器的風扇等器件不工作是正常現象。溫控器會根據設定的控制參數自動控制壓縮機、電磁閥、風扇燈器件的工作狀態。 d、由于壓縮機等器件有一個較長的啟動過程，根據不同的工況從幾十秒到數分鐘
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半導體廢水站的施工流程
廢水站在公司的動力廠房內，主體土建已經結束，現欲對廢水區域進行施工，系統安裝，想知道具體的流程如何？請前輩們指教。謝謝！